número atómico | 50 |
Peso atomico | 118.71 |
Densidad | 7,31 g/cm23 |
Punto de fusion | 231,9°C |
Punto de ebullición | 2270°C |
No CAS. | 7440-31-5 |
Código hs | 8007.0090.00 |
Producto | Especificacion estandar | |||
Pureza | Impureza (Informe de prueba de ICP-MS o GDMS, PPM máx. cada uno) | |||
Alta purezaEstaño | 5N | 99.999% | Co/Au 0.1, In/Si/S 0.2, Al/Ag/Cu/Mg/Ni/Ca/Fe/Zn/Bi/Sb 0.5, Pb/As 1.0 | Total ≤10 |
6N | 99.9999% | Co/Ag/Au 0,01, Cu/Al/Mg/Ni/Pb/Ca/Fe/Zn 0,05 | Total ≤1.0 | |
7N | 99.99999% | Ag/Cu/Au 0,001, Al/Mg/Ni 0,005, Ca/Fe 0,01, Zn 0,02 | Total ≤0.1 | |
Tamaño | Perdigones de 1-6 mm, (50x14x14)/barra de 50 g o (100x50x30)/barra de 1 kg, lingote | |||
Embalaje | 1 kg o 1 unidad en una bolsa de plástico sellada al vacío, caja de cartón en el exterior | |||
Disparo de hojalata | 3N | 99,90% | As/Cu/Cd 80, Fe 70, Pb 320, Bi 150, Sb 200, Zn/Al 10, S 5, Ag/Ni+Co 50 | Pellet/Perdigones |
4N | 99,99% | As/Cu/Al 5,0, Fe 20, Pb 35, Bi 25, Sb 15, Cd/Zn/S 3,0, Ag 1,0, Ni+Co 6,0 | perdigón/tiro | |
Tamaño | Perdigones o gránulos de 1-6 mm con forma de lágrima | |||
Embalaje | 20 kg en bolsa de plástico sellada en el interior con caja de madera contrachapada o caja de cartón en el exterior. |
Estaño de alta pureza 5N 6N 7Nen Western Minmetals (SC) Corporation con una pureza de 99,999 % 99,9999 % y 99,99999 % se puede entregar en tamaño de 1-6 mm, barra de 50 g, 500 g o 1000 g y en forma de cristal.
También se puede ofrecer Tin Shot (bolitas de estaño, gránulos, perlas, bolas) con forma de ojo de lágrima de 3N 4N 99.9% y 99.99% de nivel de pureza.
Los productos de estaño en varios grados se empaquetan en una bolsa de aluminio compuesto con una caja de cartón en el exterior, o según especificaciones personalizadas para llegar a la solución perfecta.
Estaño de alta purezaen diversas formas se usa ampliamente en tecnologías avanzadas como la información electrónica, la industria aeroespacial y la industria nuclear.El estaño de alta pureza 99,99 %, 99,999 %, 99,9999 % y 99,99999 % se convierte en un material de origen clave para la deposición avanzada de películas delgadas mediante PVD, MBE, haz de electrones y tecnología de deposición al vacío, y se utiliza para polvo ITO y materiales semiconductores compuestos objetivo como como seleniuro de estaño SnSe y telururo de estaño SnTe, etc., aleaciones de alta pureza, materiales superconductores, aditivos de aleación para soldaduras electrónicas, producción de vidrio flotante, material de revestimiento, piezas resistentes a altas temperaturas para automóviles y como dopante de monocristales de silicio y germanio crecimiento de la industria electrónica.