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Nitruro de galio GaN

Descripción

Nitruro de galio GaN, CAS 25617-97-4, masa molecular 83,73, estructura cristalina de wurtzita, es un semiconductor de banda prohibida directa compuesto binario del grupo III-V cultivado mediante un método de proceso amonotérmico altamente desarrollado.Caracterizado por una calidad cristalina perfecta, alta conductividad térmica, alta movilidad de electrones, alto campo eléctrico crítico y ancho de banda prohibida, el nitruro de galio GaN tiene características deseables en optoelectrónica y aplicaciones de detección.

Aplicaciones

El nitruro de galio GaN es adecuado para la producción de componentes LED de diodos emisores de luz brillante de alta velocidad y alta capacidad de vanguardia, dispositivos láser y optoelectrónicos como láseres verde y azul, productos de transistores de alta movilidad de electrones (HEMT) y en alta potencia. y la industria de fabricación de dispositivos de alta temperatura.

Entrega

El nitruro de galio GaN en Western Minmetals (SC) Corporation se puede proporcionar en un tamaño de oblea circular de 2 pulgadas o 4 pulgadas (50 mm, 100 mm) y oblea cuadrada de 10 × 10 o 10 × 5 mm.Cualquier tamaño y especificación personalizados son la solución perfecta para nuestros clientes en todo el mundo.


Detalles

Etiquetas

Especificación técnica

Nitruro de galio GaN

GaN-W3

Nitruro de galio GaNen Western Minmetals (SC) Corporation se puede proporcionar en tamaño de oblea circular de 2 pulgadas o 4 pulgadas (50 mm, 100 mm) y oblea cuadrada de 10 × 10 o 10 × 5 mm.Cualquier tamaño y especificación personalizados son la solución perfecta para nuestros clientes en todo el mundo.

No. Elementos Especificacion estandar
1 Forma Circular Circular Cuadrado
2 Tamaño 2" 4" --
3 Diámetro mm 50,8±0,5 100±0.5 --
4 Longitud lateral mm -- -- 10x10 o 10x5
5 Método de crecimiento HVPE HVPE HVPE
6 Orientación Plano C (0001) Plano C (0001) Plano C (0001)
7 Tipo de conductividad Tipo N/dopado con Si, sin dopar, semiaislante
8 Resistividad Ω-cm <0,1, <0,05, >1E6
9 Espesor micras 350±25 350±25 350±25
10 TTV μm máx. 15 15 15
11 Arco μm máx. 20 20 20
12 DAP cm-2 <5E8 <5E8 <5E8
13 Acabado de la superficie P/G, P/P P/G, P/P P/G, P/P
14 Rugosidad de la superficie Frontal: ≤0.2nm, Posterior: 0.5-1.5μm o ≤0.2nm
15 Embalaje Envase de oblea individual sellado en bolsa de aluminio.
fórmula lineal GaN
Peso molecular 83.73
Estructura cristalina Blenda de zinc/Wurtzita
Apariencia Sólido translúcido
Punto de fusion 2500 °C
Punto de ebullición N / A
Densidad a 300K 6,15 g/cm23
Brecha de energía (3.2-3.29) eV a 300K
resistividad intrínseca >1E8 ​​Ω-cm
Número CAS 25617-97-4
Número CE 247-129-0

Nitruro de galio GaNes adecuado para la producción de componentes LED de diodos emisores de luz brillante de alta velocidad y alta capacidad, dispositivos láser y optoelectrónicos como láseres verde y azul, transistores de alta movilidad de electrones (HEMT) y productos de alta potencia y alta industria de fabricación de dispositivos de temperatura.

GaN-W1

GaN-W2

InP-W4

s12

PC-20

Consejos de adquisición

  • Muestra disponible a pedido
  • Entrega segura de mercancías por mensajería/aire/mar
  • Gestión de calidad COA/COC
  • Embalaje Seguro y Conveniente
  • Embalaje estándar de la ONU disponible a pedido
  • Certificado ISO9001:2015
  • Términos CPT/CIP/FOB/CFR por Incoterms 2010
  • Condiciones de pago flexibles T/TD/PL/C Aceptable
  • Servicios posventa de dimensiones completas
  • Inspección de calidad por instalaciones de última generación
  • Aprobación de las normas Rohs/REACH
  • Acuerdos de confidencialidad NDA
  • Política de minerales de no conflicto
  • Revisión periódica de la gestión ambiental
  • Cumplimiento de la Responsabilidad Social

Nitruro de galio GaN


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