Oblea de silicio FZ NTD

Descripción

Oblea de silicio FZ-NTD, conocida como oblea de silicio dopado con transmutación de neutrones de zona flotante.Se puede obtener silicio libre de oxígeno, de alta pureza y de la más alta resistividad.y Crecimiento de cristales de zona flotante FZ (zona flotante), HEl cristal de silicio FZ de alta resistividad a menudo se dopa mediante el proceso de dopaje por transmutación de neutrones (NTD), en el que la irradiación de neutrones en el silicio de la zona flotante sin dopar hace que los isótopos de silicio queden atrapados con neutrones y luego se descompongan en los dopantes deseados para lograr el objetivo de dopaje.Mediante el ajuste del nivel de radiación de neutrones, la resistividad puede modificarse sin introducir dopantes externos y, por lo tanto, garantizando la pureza del material.Las obleas de silicio FZ NTD (silicio de dopaje de transmutación de neutrones de zona flotante) tienen propiedades técnicas superiores de concentración de dopaje uniforme y distribución de resistividad radial uniforme, niveles de impureza más bajos,y una larga vida útil de los portadores minoritarios.

Entrega

Como proveedor líder en el mercado de silicio NTD para aplicaciones de energía prometedoras, y siguiendo las crecientes demandas de obleas de nivel de calidad superior, la oblea de silicio FZ NTD superioren Western Minmetals (SC) Corporation se puede ofrecer a nuestros clientes en todo el mundo en varios tamaños que van desde 2″, 3″, 4″, 5″ y 6″ de diámetro (50 mm, 75 mm, 100 mm, 125 mm y 150 mm) y una amplia gama de resistividad 5 a 2000 ohm.cm en orientaciones <1-1-1>, <1-1-0>, <1-0-0> con acabado de superficie cortado, lapeado, grabado y pulido en paquete de caja de espuma o casete , o como especificación personalizada para la solución perfecta.